반도체 공정 기초 (1) 썸네일형 리스트형 ＊＊＊Photo Lithography Process(사진 공정) 기초＊＊＊ 1. Photo Lithography Process란? https://y-sandy.blogspot.com/2017/04/photolithography-word-lithography-comes.html Photo Lithography 공정이란 패턴이 새겨진 Mask에 빛을 조사하여 원하는 패턴을 Wafer에 새기는 것으로 반도체 공정 시간의 60%를 차지하는 매우 중요한 공정이다. ※관련 용어 정리 -Mask: 원하는 패턴을 웨이퍼에 새기기 위해 제작된 Plate -PR(Photo Resist, 감광제): 특정 파장대의 빛에만 반응하는 물질로 Positive PR(빛을 받은 부분이 용매에 의해 제거)과 Negative PR(빛을 받지 않은 부분이 용매에 의해 제거)이 있다. 또한, 보통 소수성 성질을 가.. 이전 1 다음
